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2025年光學真空鍍膜機技術新突破:成都天一國泰真空設備有限公司引領行業升級
【成都,2025年X月X日】全球光學鍍膜技術迎來革命性進展——成都天一國泰真空設備有限公司正式發布新一代智能光學真空鍍膜機,通過自主創新的等離子體增強沉積技術(PEVCD)與AI實時膜厚控制系統,將鍍膜精度提升至亞納米級,打破國外技術壟斷,為航天光學、AR/VR鏡片、超透鏡等高端領域提供國產化解決方案。
技術突破亮點
深耕真空技術20年,以創新驅動發展
成都天一國泰真空設備有限公司自2005年成立以來,始終秉持"人合于心,技精于真空"的理念,已累計獲得37項國家發明專利,服務過中科院光電所、華為光電子等頭部客戶。2024年公司建成亞洲首條"真空鍍膜4.0智能產線",實現設備互聯與遠程診斷功能。
董事長XXX表示:"此次技術突破標志著國產鍍膜設備正式進入‘精密智造’階段。我們正與成都電子科技大學共建‘極端環境鍍膜聯合實驗室’,預計2026年推出可適應太空環境的鍍膜系統。"
目前,該設備已通過德國萊茵TüV 48小時不間斷穩定性認證,首批訂單將應用于嫦娥七號探測器濾光片制造。
需補充內容建議
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